中國正積極尋找本土化解方。中國之精良率不佳  。曝光

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,機羲近 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

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中國受美國出口管制影響 ，生產效率遠低於 EUV 系統。代妈助孕無法取得最先進的 EUV 機台
，號稱性能已能媲美國際主流設備，但生產效率仍顯不足。代妈招聘公司

浙江大學余杭量子研究院研發的【代妈应聘选哪家】 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」
，華為也被限制在 7 奈米製程 ，

外媒報導 ，中芯國際的 5 奈米量產因此受阻，但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間
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